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臺積電2納米制程技術細節(jié)出爐,性能躍升15%,功耗降低30%

鈦媒體App 12月17日消息,在舊金山舉行的IEEE國際電子器件會議 (IEDM) 上,全球晶圓代工巨頭臺積電公布了其備受矚目的2納米(N2)制程技術的更多細節(jié)。據(jù)介紹,相較于前代制程,N2制程在性能上提升了15%,功耗降低了高達30%,能效顯著提升。此外,得益于環(huán)繞式柵極(GAA)納米片晶體管和N2 NanoFlex技術的應用,晶體管密度也提高了1.15倍。N2 NanoFlex技術允許制造商在最小的面積內(nèi)集成不同的邏輯單元,進一步優(yōu)化了制程的性能。據(jù)悉,N2制程晶圓的價格將比3納米制程高出10%以上。
US臺積電

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