(1)據(jù)報(bào)道,H20恢復(fù)銷售后,英偉達(dá)迅速調(diào)整了原定依賴庫存的策略,在現(xiàn)有60-70萬片儲(chǔ)備基礎(chǔ)上進(jìn)一步擴(kuò)大產(chǎn)能,并向臺(tái)積電緊急追加了30萬片訂單;
(2)華為宣布CANN Mind系列應(yīng)用套件及工具鏈將全面開源,支持用戶自主的深度挖潛和自定義開發(fā)。相比CUDA閉源,此次CANN開源,也體現(xiàn)了華為希望盡快擴(kuò)大CANN生態(tài)圈的最新舉措;
(3)光刻機(jī)是半導(dǎo)體設(shè)備市場占比最大的品類,在高端整機(jī)環(huán)節(jié),2024年工信部發(fā)布的《首臺(tái)(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄》中將國產(chǎn)KrF及ArF光刻機(jī)明確列入,標(biāo)志著我國在DUV光刻機(jī)已取得明確進(jìn)展;
(4)我國也在大力支持RISC-V芯片方向的研發(fā),RISC-V打破了x86和ARM的專利壁壘,中國發(fā)展RISC-V可減少對國外傳統(tǒng)指令集架構(gòu)的依賴,其開源、零授權(quán)費(fèi)、模塊化特性,也大幅降低了芯片設(shè)計(jì)門檻和創(chuàng)新成本;
(5)機(jī)構(gòu)認(rèn)為,中國RISC‐V在高性能、端側(cè)、IP輸出和多元生態(tài)構(gòu)建上已經(jīng)形成差異化競爭力,中國RISC‐V有望在“未來六年”內(nèi)占據(jù)數(shù)據(jù)中心等市場三分之一份額。






快報(bào)