(1)根據(jù)SEMI及中商產(chǎn)業(yè)研究院數(shù)據(jù)顯示,2024年全球半導(dǎo)體設(shè)備銷售額為1090億美元,其中光刻機(jī)市場占比最高達(dá)24%,并且隨芯片制程迭代,這一占比還在持續(xù)提高;
(2)2025年,哈爾濱工業(yè)大學(xué)官宣了成功研制出13.5nm波長的極紫外光刻光源,這是光源技術(shù)上備受矚目的一項突破。中科院上海光機(jī)所成功研發(fā)了全固態(tài)深紫外光源系統(tǒng),使得中國芯片工藝推進(jìn)至3納米理論極限;
(3)2024年工信部發(fā)布的《首臺(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄》中將國產(chǎn)KrF及ArF光刻機(jī)明確列入,標(biāo)志著我國在DUV光刻機(jī)已取得明確進(jìn)展。
(4)GPU“四小龍”中的摩爾線程IPO輔導(dǎo)狀態(tài)變更為輔導(dǎo)驗收,沐曦集成完成了上市輔導(dǎo),高端半導(dǎo)體封裝測試重要企業(yè)盛合晶微輔導(dǎo)狀態(tài)變更為輔導(dǎo)驗收,芯密科技、兆芯集成、上海超導(dǎo)IPO獲受理。
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